英飞凌在80年代中期就开发出 NPT 非穿透型IGBT来取代PT穿透型,英飞凌的第一代,第二代都是平面栅NPT型IGBT,开关损耗低,耐冲击性好,适合工业应用,如马达驱动,UPS和其它电源设备。如1998年开发出的600V第二代NPT超薄型晶片,仅厚100um。采用这一芯片的模块是目前UPS行业的主流技术平台。
英飞凌推出的采用沟槽栅场终止技术第三代IGBT,即 IGBT3超薄型芯片,其首先在1200V和1700V 器件上实现, 近来又推出600V IGBT3。其导通损耗降低了30%,在保持了相近开关损耗的同时,其关断过程更软,为高效率、低电磁发射的UPS提供的功率平台。
这是业内最先进的IGBT技术,融合了两种全新的概念:场终止技术(fieldstop)和沟槽栅(trench gate)。下面将分别介绍这两种技术:
new 600V generation IGBT for UPS.pdf
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